国际半导体技术路线图
| 半导体器件制造 |
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| 金属氧化物半导体场效应管 |
国际半导体技术路线图（International Technology Roadmap for Semiconductors，缩写为 ITRS），是由世界上五个主要的半导体制造国家的相关协会所资助的组织，包括台湾、韩国、日本、美国和欧洲的半导体行业协会。 [1]许多半导体产业专家组成工作小组每年进行数次讨论，并提出一些报告与文档，以期集成电路与其应用的相关产业能更有成本效益的健全发展。
该路线图文件含有免责声明：“ITRS的设计仅用于技术评估，并不考虑与单个产品或设备有关的任何商业应用”。
这些文件代表了以下技术领域对未来约15年的研究方向和时间表的最佳意见：
截至2017年，国际半导体技术发展路线图（ITRS）不再更新。它的继任者是国际设备和系统路线图（IRDS），从而全面地反应各种系统级新技术。
| 主节点 | 半节点 |
|---|---|
| 250 nm | 220 nm |
| 180 nm | 150 nm |
| 130 nm | 110 nm |
| 90 nm | 80 nm |
| 65 nm | 55 nm |
| 45 nm | 40 nm |
| 32 nm | 28 nm |
| 22 nm | 20 nm |
| 14 nm | 16 nm |
| 10 nm | 11 nm |
历史
[编辑]制造集成电路或任何半导体器件都需要一系列操作-光刻、刻蚀、CVD等。随着行业的发展，每一个步骤通常都是由各个公司制造的专用机器执行的。这种专业化在某种程度上可能会阻碍行业进步，因为在许多情况下，如果其他所需步骤未能同时到位，一家公司推出新产品也无济于事。技术路线图可以通过提供何时需要某种能力的预期来帮助解决这一问题。然后每个供应商可以以该日期为目标，完成自己环节的工作。[2][3][4]
随着生产制造工具逐渐外包专用设备供应商，出现了明确的路线图，以预测市场的发展来计划和控制IC生产的技术需求。几年来，半导体工业协会（SIA）将此协调职责赋予了美国，这导致了美国风格路线图的制定，即国家半导体技术路线图（NTRS）。[5]
1998年，SIA通过创建首个全球性路线图——国际半导体技术路线图（ITRS），与欧洲、日本、韩国和台湾的同行走得更近。截至2003版，该国际组织共有936家公司参与ITRS各工作组。[6] 该组织被划分为技术工作组（TWG），最终增至17个，每组聚焦技术及相关供应链的关键要素。传统上，ITRS路线图在偶数年更新，在奇数年进行全面修订。[7]
路线图最后一次修订于2013年。2013年表格的缩放结果的方法论和物理基础详见“基于预测全带区原子建模的晶体管路线图预测”，该文涵盖至2028年的双栅MOSFET。[8]
随着普遍认为摩尔定律已走向终结，ITRS于2016年发布最终路线图，IEEE通过其IEEE Rebooting Computing倡议发起了更通用的路线图计划，命名为国际设备和系统路线图（IRDS）。[9]
ITRS 2.0
[编辑]2014年4月，ITRS委员会宣布将重组路线图，以更好地满足行业需求。计划将所有17个技术工作组的内容映射到七个重点主题：[7]
- 系统集成：设计聚焦，研究架构及异构模块的集成。
- 外部系统互联性：关注无线通讯技术的工作原理及解决方案选择。
- 异构集成：重点研究将独立制造的技术集成到新单元，使其整体性能优于各组件，同时可包含相机和麦克风等。
- 异构组件：聚焦构成异构系统的不同器件，如微机电系统、发电和传感设备。
- 超越CMOS：关注非互补金属氧化物半导体的电子器件，如自旋电子学、忆阻器等。
- More Moore：因仍有发展空间，该组致力于继续缩小CMOS工艺尺寸。
- 工厂集成：关注生产上述异构集成所需的新工具和流程。
另见
[编辑]外部链接
[编辑]参考
[编辑]- ^ 2014----中国科学院科技战略咨询研究院. www.casisd.cn. [2025-05-09].
- ^ Gargini, P. The International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS): Past, present and future. 22nd Annual Gallium Arsenide Integrated Circuit (GaAs IC) Symposium. IEEE: 3–5. 2000. doi:10.1109/GAAS.2000.906261.
- ^ Schaller, R.R. Technological innovation in the semiconductor industry: a case study of the international technology roadmap for semiconductors (ITRS) (PDF) (学位论文). George Mason University. 2004 [2020-09-16]. （原始内容存档 (PDF)于2019-07-28）.
- ^ Schaller, R. Technological innovation in the semiconductor industry: a case study of the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). Management of Engineering and Technology, 2001. PICMET'01. Portland International Conference on 1. IEEE: 195. 2001. doi:10.1109/PICMET.2001.951917. Article summarizing thesis of the same name.
- ^ Spencer, W.J.; Seidel, T.E. National technology roadmaps: the US semiconductor experience. Solid-State and Integrated Circuit Technology, 1995 4th International Conference on. IEEE: 211–220. 1995. doi:10.1109/ICSICT.1995.500069.
- ^ Waldner, Jean-Baptiste. Nanocomputers and Swarm Intelligence. London: ISTE. 2007: 50–53. ISBN 978-1-84704-002-2.
- ^ 7.0 7.1 von Trapp, Francoise. Executive Interview: Bill Bottoms Talks about Revamping the ITRS Roadmap. 3D InCites. 3D InCites. [April 14, 2015]. （原始内容存档于2025-02-17）.
- ^ Salmani-Jelodar, M.; Kim, S.; Ng, K.; Klimeck, G. Transistor roadmap projection using predictive full-band atomistic modeling. Applied Physics Letters. 2014年8月28日, 105 (8): 083508 [2025年5月9日]. doi:10.1063/1.4894217. （原始内容存档于2024年6月24日） –通过Silverchair.
- ^ IRDS launch announcement 4 MAY 2016 (PDF). [2025-05-09]. （原始内容存档 (PDF)于2016-05-27）.
- ^ ITRS 2.0 报告[usurped]
- ^ Dropbox. www.dropbox.com.